仪器播客

收集和录制仪器操作维护视频,自2003年进入仪器行业,从业务到管理,到技术生产。现在主要产品是箱式炉,管式炉,气氛炉和行星式球磨机

SPS放电等离子体热压烧结炉

SPS是放电等离子体热压烧结炉的简称。

SPS(Spark Plasma Sintering,火花等离子烧结)是一种先进的材料合成与加工技术。它利用脉冲直流电流通过粉末材料,在短时间内实现材料的致密化过程。SPS放电等离子体热压烧结炉是进行这种工艺的关键设备,其主要特点包括快速加热、短周期烧结以及良好的微观结构控制能力。

主要特点:快速加热,由于电流直接通过粉末材料,加热速度非常快,可以达到数千度每秒,这有助于减少不必要的相变或反应。

晶体生长炉

单晶炉的炉室采用3节设计。上筒和上盖可以上升并向两边转动,便于装料和维护等。炉筒升降支撑采用双立柱设计,提高稳定性。支撑柱安装在炉体支撑平台的上面,便于平台下面设备的维护。炉筒升降采用丝杠提升技术,简便干净。全自动控制系统采用模块化设计,维护方便,可靠性高,抗干扰性好。硅单晶生长的成功与否以及质量的高低是由热场的温度分布决定的。温度分布合适的热场,不仅硅单晶生长顺利,而且品质较高;如果热场的温度分布不是很合理,生长硅单晶的过程中容易产生各种缺陷

等离子体化学气相沉积CVD

等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法,分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。简介:等离子体化学气相沉积( plasma chemical vapor deposition)简称PCVD,是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作

SEM扫描电子显微镜

扫描电子显微镜(SEM)是1965年发明的主要用于细胞生物学研究电子显微镜,主要是利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态,即用极狭窄的电子束去扫描样品,通过电子束与样品的相互作用产生各种效应,其中主要是样品的二次电子。二次电子能够产生样品表面放大的形貌像,这个像是在样品被扫描时按时序建立起来的,即使用逐点成像的方法获得放大像。 扫描电镜(SEM)是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观扫描电子显微镜扫描电子显微镜察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。扫描电镜的优

XRD是什么?即X-ray diffraction的缩写

 XRD是什么?即X-ray diffraction的缩写。 1、XRD 即X-ray diffraction 的缩写,X射线衍射,通过对材料进行X射线衍射,分析其衍射图谱,获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。2、X射线是一种波长很短(约为20~0.06埃)的电磁波,能穿透一定厚度的物质,并能使荧光物质发光、照相乳胶感光、气体电离。在用电子束轰击金属“靶”产生的X射线中,包含与靶中各种元素对应的具有特定波长的X射线,称为特征(或标识)X射线。3、X
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