仪器播客

收集和录制仪器操作维护视频,自2003年进入仪器行业,从业务到管理,到技术生产。现在主要产品是箱式炉,管式炉,气氛炉和行星式球磨机

等离子体化学气相沉积CVD

等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法,分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。简介:等离子体化学气相沉积( plasma chemical vapor deposition)简称PCVD,是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作
«   2020年3月   »
1
2345678
9101112131415
16171819202122
23242526272829
3031
控制面板
您好,欢迎到访网站!
  查看权限
网站分类
搜索
最新留言
    文章归档
    网站收藏
    友情链接
    • 订阅本站的 RSS 2.0 新闻聚合

    Copyright www.yiqiboke.com.All Rights Reserved.